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磁懸浮分子泵CXF-200/1401

磁懸浮分子泵CXF-200/1401

簡要描述:簡稱中科科儀,歷經(jīng)六十余年的發(fā)展,始終致力于電子光學(xué)和真空技術(shù)領(lǐng)域,公司業(yè)務(wù)領(lǐng)域覆蓋掃描電子顯微鏡、氦質(zhì)譜檢漏儀等科學(xué)儀器設(shè)備和分子泵、真空應(yīng)用設(shè)備等核心零部件及產(chǎn)業(yè)設(shè)備,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空航天、半導(dǎo)體、汽車工業(yè)、新能源、新材料、節(jié)能環(huán)保等前沿科學(xué)研究和裝備制造領(lǐng)域。磁懸浮分子泵CXF-200/1401緊湊型結(jié)構(gòu),滿足更小的物理空間需求、任意角度安裝,適合各種設(shè)計(jì)需求、豐富擴(kuò)展功能,滿足客戶定

產(chǎn)品型號:

所屬分類:分子泵

更新時間:2025-02-28

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

詳情介紹

CXF-200/1401

產(chǎn)品特點(diǎn):

節(jié)能:無摩擦,避免摩擦熱損耗、較其它類型產(chǎn)品能耗降低30%

高效:更長的連續(xù)工作時間、高氣流量和高抽速

靈活:緊湊型結(jié)構(gòu),滿足更小的物理空間需求、任意角度安裝,適合各種設(shè)計(jì)需求、豐富擴(kuò)展功能,滿足客戶定制化需求

應(yīng)用領(lǐng)域:

科研、加速器、碳化硅、晶體晶振、光伏、Low-E玻璃鍍膜、ITO鍍膜、光學(xué)鍍膜、裝飾鍍膜、平板顯示、真空爐

電真空、新能源、新材料、真空干燥、低溫制冷、薄膜沉積、刻蝕、離子注入、光刻、電子器件


技術(shù)參數(shù):

進(jìn)氣口法蘭:DN200 ISO F(標(biāo)配)  DN200 CF(可選)   DN200 LF(可定制) 

排氣口法蘭:KF40

抽速速率(L/S):N2:1280   Ar:1100    He:880    H2:560

壓縮比:N2:>1E8    Ar:>1E8    He:>1E4    H2:>1E3

極限壓強(qiáng)(Pa):1E-7(橡膠密封)   1E-8(金屬密封)  

最大瞬時入口流量(sccm):1100

保護(hù)氣入口法蘭(選配):KF10

推薦保護(hù)氣體流量:20

最大允許磁場強(qiáng)度:  徑向:3  軸向:15

額定轉(zhuǎn)速(rpm):30000

啟動時間(min):≤6

停機(jī)時間(min):≤8

冷卻方式:水冷

冷卻水流量(L/min):2

推薦冷卻水溫度(℃):20±5

電源電壓(V AC): 220±10%,50Hz          110±10%,60Hz

適配電源型號:CXFD-1001

建議前級泵: ≥16

重量(kg):51

產(chǎn)品尺寸圖:

磁懸浮分子泵CXF-200/1401


磁懸浮分子泵CXF-200/1401

科學(xué)研究加速器碳化硅晶體晶振光伏Low-E玻璃鍍膜ITO鍍膜光學(xué)鍍膜裝飾鍍膜平板顯示真空爐電真空新能源新材料真空干燥低溫制冷薄膜沉積刻蝕離子注入光刻電子器件




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